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本文標(biāo)題:"制作高數(shù)值孔徑的微透鏡-灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡"

發(fā)布者:yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------ 人瀏覽過(guò)-----時(shí)間:2013-3-6 5:7:50

 制作高數(shù)值孔徑的微透鏡-灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡

 
 
1.利用八階微透鏡的光罩與負(fù)光阻,可制作出凹透鏡以及凹面
鏡,因此可以利用凹面鏡的功用以取代凸透鏡和鏡子組合的
功用,目前已做了光阻、矽基板與石英基板的蝕刻速率之量
測(cè),以幫助未來(lái)蝕刻之條件。
 
2.利用較高的折射率的材料如鈮酸鋰(LiNbO3)等,就可制作出
數(shù)值孔徑較高的微透鏡。由于我們使用高折射率的材料的目
的是要改善數(shù)值孔徑,由于繞射式平凸透鏡的 NA 值最大值
可達(dá)到 n-1,石英基板的折射率 n 為 1.5,所以以石英為基板
之繞射式元件的數(shù)值孔徑最大值可達(dá)到 0.5﹔而鈮酸鋰的折射率 n 為 2.1~2.3,
所以以鈮酸鋰為基板的微透鏡其數(shù)值孔徑最
大值可到 1.1~1.3,因此若我們將元件的材質(zhì)改為鈮酸鋰的
話(huà),我們將可制作高數(shù)值孔徑的微透鏡﹔
 
而且未來(lái) CD-ROM或是 DVD-ROM 讀寫(xiě)頭所用的聚焦透鏡之?dāng)?shù)值孔徑也將會(huì)達(dá)
到 0.6~0.8,因此由石英基板所制成之平凸微透鏡無(wú)法達(dá)到此
要求,所以我們將要把材料改為高折射率的材料才能制作高
數(shù)值孔徑之微透鏡。我們針對(duì)鈮酸鋰和石英基板的蝕刻情況
做一比較,利用活性離子蝕刻的方式來(lái)進(jìn)行蝕刻[28] [29],而
石英基板的蝕刻速率較鈮酸鋰的蝕刻速率快的許多
(在相同情況下,石英基板的蝕刻速率為每分鐘 40nm﹔鈮酸鋰的蝕刻速率為每分鐘 3nm),
而且石英基板的表面粗糙度也較鈮酸鋰的
 
表面緩和,因此我們無(wú)法用活性離子蝕刻的方式來(lái)蝕刻鈮酸
鋰,所以在未來(lái)的工作中將會(huì)使用感應(yīng)式耦合電漿蝕刻機(jī)(ICP)
對(duì)鈮酸鋰進(jìn)行蝕刻,以改善蝕刻速率。
 
3.對(duì)于灰階光罩之光阻與光密度之間的關(guān)系已經(jīng)量測(cè),這有利
我們著手于制作灰階光罩的資料
 
 
灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡圖形

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